为了减少钛管靶中的气孔，加强溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶的密度不但影响溅射速率，而且影响薄膜的电学和光学性能。靶密度越高，薄膜性能越好。另外，加强靶材的密度和强度可以使靶材可以承受溅射过程中的热应力。密度也是目标的关键性能指标之一。
　　通常目标材料是多晶结构，晶粒尺寸可以从微米到毫米。对于钛管靶，小晶粒靶材的溅射速率比大晶粒靶材快，而小晶粒差靶材（均匀分布）沉积的薄膜厚度分布比较均匀。